BAO Mask Avenger是一款非常實用的AE高級遮罩腳本，有了這款腳本，我們就可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點，同時在三維空間制作出路徑動畫。

【功能特色】

　　拉姆預(yù)覽保護(hù)。以前版本的最大問題是Ram預(yù)覽無效

　　通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這一點。

　　3D面具。 Mask Avenger現(xiàn)在可以在3D中控制蒙版，而無需使用空圖層和表達(dá)式。

　　然后更快地計算掩模，并簡化表達(dá)式寫入。

　　背景烘焙。當(dāng)需要修改蒙版時，蒙版復(fù)仇者會立即對其進(jìn)行轉(zhuǎn)換

　　當(dāng)前時間，并在后臺烘烤工作區(qū)域的其余部分。這意味著您可以繼續(xù)工作

　　而面具復(fù)仇者正在忙著烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。

　　更好地塑造層兼容性。與“動態(tài)”模式相關(guān)的錯誤隨著新烘焙而消失系統(tǒng)。

　　工作區(qū)和圖層的持續(xù)時間不再影響Mask Avenger的計算速度。當(dāng)然，

　　烘焙100,000個關(guān)鍵幀需要超過10個，但新的烘焙系統(tǒng)允許您繼續(xù)工作

　　而它正在烘烤。

　　不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自己的掩蔽功能，運行速度更快。

　　面具預(yù)覽。 Mask avenger 2.0有一個預(yù)覽系統(tǒng)，可以動態(tài)地顯示它們之前的變化

　　適用于面具。這可以避免在表達(dá)式，其他圖層或相機修改蒙版時出現(xiàn)延遲。